Computational lithography
Auteur :
Ma, Xu / Arce, Gonzalo R.
Éditeur :
John Wiley & Sons Inc
ISBN :
9780470596975
Date de publication :
6 août 2010
Dimensions :
24,1 x 16,0 x 1,8 cm
Poids :
508 g
Langue :
Anglais
Pays d'origine :
USA
This is the first book to address the optimization of resolution enhancement techniques in optical lithography. It provides an in-depth discussion of RET tools that use model-based mathematical optimization approaches.