Physical vapor deposition of thin films
Auteur :
Mahan, John E.
Éditeur :
John Wiley & Sons Inc
ISBN :
9780471330011
Date de publication :
8 févr. 2000
Dimensions :
23,8 x 16,4 x 2,2 cm
Poids :
590 g
Langue :
Anglais
Pays d'origine :
USA
This volume examines physical vapour deposition, one of the main methods for preparing thin films for integrated circuit manufacturing and many other high-tech industries. It introduces unified treatment of the field of physical vapour deposition, drawing on a wide range of physical science.